產(chǎn)品列表
PROUCTS LIST
- 鄰苯檢測(cè)儀器
- 元素分析儀
- ROHS2.0檢測(cè)儀器
- ROHS設(shè)備
- 鍍層厚度分析儀器
- GC/MS氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀
- XRF測(cè)試儀
- 鋼鐵成份分析儀器
- ROHS新增加四項(xiàng)檢測(cè)儀
- 鄰苯設(shè)備
- pm2.5檢測(cè)儀
- 黃銅銅合金含量檢測(cè)儀器
- 重金屬檢測(cè)儀器
- AAS原子吸收分光光度計(jì)
- ICP等離子體光譜儀
- IC離子色譜儀
- 金屬鉛含量檢測(cè)儀
- 考古檢測(cè)儀器
- XRF維修
- XRF測(cè)試儀器維修服務(wù)
- ROHS檢測(cè)儀器以舊換新服務(wù)
- 電子環(huán)保檢測(cè)
- 進(jìn)口紅外光譜儀
- 物理性能試驗(yàn)箱
主要用途: 儀器是較新型X射線熒光光譜儀,具有重現(xiàn)性好,測(cè)量速度快,靈敏度高的特點(diǎn)。能分析F(9)~U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片,液體等,分析對(duì)象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業(yè)樣品。無標(biāo)半定量方法可以對(duì)各種形狀樣品定性分析,并能給出半定量結(jié)果,結(jié)果準(zhǔn)確度對(duì)某些樣品可以接近定量水平,分析時(shí)間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析,薄膜分析。 測(cè)量樣品的zui大尺寸要求為直徑51mm,高40mm.
儀器類別: 0303040903 /儀器儀表 /成份分析儀器 /熒光光度計(jì)
指標(biāo)信息: 1.發(fā)射源是Rh靶X光管,zui大電流125mA,電壓60kV,zui大功率3kW 2.儀器在真空條件下工作,真空度<13pascals 3.5塊分析晶體,可以分析元素周期表F~U之間所有元素,含量范圍是ppm~100% 4.分析軟件是Philips公司(現(xiàn)為PANalytical)版軟件,既可作半定量,也可定量分析。精密度:在計(jì)算率N=1483870時(shí),RSD=0.08% 穩(wěn)定性計(jì)算率Nmax=6134524,Nmin=6115920,N平均=6125704,相對(duì)誤差為0.03%
附件信息: 循環(huán)水致冷單元,計(jì)算機(jī) P10氣體瓶空氣壓縮機(jī)
分析對(duì)象主要有各種磁性材料(NdFeB、SmCo合金、FeTbDy)、鈦鎳記憶合金、混合稀土分量、貴金屬飾品和合金等,以及各種形態(tài)樣品的無標(biāo)半定量分析,對(duì)于均勻的顆粒度較小的粉末或合金,結(jié)果接近于定量分析的準(zhǔn)確度。X熒光分析快速,某些樣品當(dāng)天就可以得到分析結(jié)果。適合課題研究和生產(chǎn)監(jiān)控。
X射線熒光光譜儀分為波長(zhǎng)色散、能量色散、非色散X熒光、全反射X熒光。
波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜采用晶體或人工擬晶體根據(jù)Bragg定律將不同能量的譜線分開,然后進(jìn)行測(cè)量。波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜一般采用X射線管作激發(fā)源,可分為順序式(或稱單道式或掃描式)、同時(shí)式(或稱多道式)譜儀、和順序式與同時(shí)式相結(jié)合的譜儀三種類型。順序式通過掃描方法逐個(gè)測(cè)量元素,因此測(cè)量速度通常比同時(shí)式慢,適用于科研及多用途的工作。同時(shí)式則適用于相對(duì)固定組成,對(duì)測(cè)量速度要求高和批量試樣分析, 順序式與同時(shí)式相結(jié)合的譜儀結(jié)合了兩者的優(yōu)點(diǎn)。
能量色散X射線熒光光譜
能量色散X射線熒光光譜采用脈沖高度分析器將不同能量的脈沖分開并測(cè)量。能量色散X射線熒光光譜儀可分為具有高分辨率的光譜儀,分辨率較低的便攜式光譜儀,和介于兩者之間的臺(tái)式光譜儀。高分辨率光譜儀通常采用液氮冷卻的半導(dǎo)體探測(cè)器,如Si(Li)和高純鍺探測(cè)器等。低分辨便攜式光譜儀常常采用正比計(jì)數(shù)器或閃爍計(jì)數(shù)器為探測(cè)器,它們不需要液氮冷卻。近年來,采用電致冷的半導(dǎo)體探測(cè)器,高分辨率譜儀已不用液氮冷卻。同步輻射光激發(fā)X射線熒光光譜、質(zhì)子激發(fā)X射線熒光光譜、放射性同位素激發(fā)X射線熒光光譜、全反射X射線熒光光譜、微區(qū)X射線熒光光譜等較多采用的是能量色散方式。
非色散譜儀
非色散譜儀不是采用將不同能量的譜線分辨開來,而是通過選擇激發(fā)、選擇濾波和選擇探測(cè)等方法使測(cè)量分析線而排除其他能量譜線的干擾,因此一般只適用于測(cè)量一些簡(jiǎn)單和組成基本固定的樣品。
全反射X射線熒光
如果n1>n2,則介質(zhì)1相對(duì)于介質(zhì)2為光密介質(zhì),介質(zhì)2相對(duì)于介質(zhì)1為光疏介質(zhì)。對(duì)于X射線,一般固體與空氣相比都是光疏介質(zhì)。所以,如果介質(zhì)1是空氣,那么α1>α2(圖2.20右圖),即折射線會(huì)偏向界面。如果α1足夠小,并使α2=0,此時(shí)的掠射角α1稱為臨界角α臨界。當(dāng)α1<α臨界時(shí),界面就象鏡子一樣將入射線全部反射回介質(zhì)1中,這就是全反射現(xiàn)象。
X射線熒光光譜法有如下特點(diǎn):
分析的元素范圍廣,從4Be到92U均可測(cè)定;熒光X射線譜線簡(jiǎn)單,相互干擾少,樣品不必分離,分析方法比較簡(jiǎn)便;
分析濃度范圍較寬,從常量到微量都可分析。重元素的檢測(cè)限可達(dá)ppm量級(jí),輕元素稍差;
分析樣品不被破壞,分析快速,準(zhǔn)確,便于自動(dòng)化。